Título EMULSION FOTORRESISTENTE IONOMERICA, ESTABLE Y PROCEDIMIENTO DE PREPARACION Y USO DE LA MISMA.
Resumen SE DESCRIBEN COMPOSICIONES DE SUSTANCIA FOTOENDURECIBLE ESTABLES, FLOTANTES Y METODOS DE SU PREPARACION Y UTILIZACION. LAS COMPOSICIONES SE CARACTERIZAN POR RESISTENCIA AL CORTE INCREMENTADA Y ESTABILIDAD DE ALMACENAMIENTO. LA COMPOSICION DE SUSTANCIA FOTOENDURECIBLE COMPRENDE UNA EMULSION ACUOSA DE UN 22 % O MENOS DE RESINA CARBOXILATADA NEUTRALIZADA Y SURFACTANTE NOIONICO QUE CONTIENE SEGMENTOS DE POLI(ETILENO-OXIDO), MONOMERO FOTOPOLIMERIZABLE Y FOTOINICIADOR. LA NEUTRALIZACION SE LOGRA UTILIZANDO UNA BASE ORGANICA O INORGANICA O MEZCLAS DE LAS MISMAS. LAS COMPOSICIONES DE SUSTANCIA FOTOENDURECIBLE SON UTILES PARA CUBRIR Y PROTEGER SELECTIVAMENTE SUPERFICIES SUJETAS A AMBIENTES CORROSIVOS, POR EJEMPLO, PROCESOS DE BAÑOS DESOXIDANTES, EN LA PRODUCCION DE SEGUIMIENTOS DE CIRCUITOS PARA PLACAS DE CIRCUITOS ELECTRONICOS.
Solicitante MACDERMID INCORPORATED
Direc. Soli. 245 FREIGHT STREET, WATERBURY, CONNECTICUT 06702
Nac.Solicitante US
Inventor HALLOCK, JOHN, SCOTT
BECKNELL, ALLAN, FREDERICK
EBNER, CYNTHIA, LOUISE
HART, DANIEL, JOSEPH
NºPublic. 2145907
F.Pub.Conce. 20000716
Prioridades US1994030994208546
Nº Solicitud Euro. E95911101
NºPubl.Euro. 0749594
F.Pub.Sol.Euro. 19961227
F.Conce.Euro. 20000412
Nº Solicitud PCT W9502331US
F.Sol. PCT 19950224
NºPubl.PCT W9524674
F.Pub.Sol.PCT 19950914
F.Pub.Resumen 19980801
Países desig.PCT AT BE CH DE DK ES FR GB GR IE IT LI LU MC NL EPO
BF BJ CF CG CI CM GA GN ML MR NE SN TD TG OAP
Clasif.Principal G03F7/031,G03F7/032,G03F7/033,B32B15/08,B32B17/10,B32B27/08,G03F7/004,G03F7/027