Título UN PROCEDIMIENTO PARA LA DEPOSICION ELECTROQUIMICA DE TANTALIO.
Resumen Un procedimiento para la deposición electroquímica de tantalio sobre un artículo en una atmósfera inerte y no oxidante, o bajo vacío, en un electrólito fundido que contiene iones de tantalio, que comprende las etapas de: sumergir el artículo en el electrólito fundido calentado a la temperatura de trabajo, hacer pasar una corriente eléctrica a través del electrólito para, de ese modo, depositar sobre el artículo un revestimiento de tantalio. usar el procedimiento de deposición de tantalio para depositar á-tantalio puro, al menos en una fase inicial; caracterizado por: aplicar la corriente eléctrica en un primer tipo de ciclos de una fase de nucleación, comprendiendo dicho primer tipo de ciclos al menos un periodo catódico, seguido por al menos un periodo anódico, y una pausa que tiene una duración mayor que la duración del periodo catódico y anódico del ciclo, de ese modo durante dicha fase de nucleación se aplica la corriente con pulsos que tienen una densidad de corriente entre la densidad de corriente límite y la densidad de corriente de deposición de â-tantalio.
Solicitante DANFOSS A/S
Direc. Soli. ,6430 NORDBORG
Nac.Solicitante DK
Inventor CHRISTENSEN, JOHN
CHRISTENSEN, ERIK
NºPublic. 2236479
F.Pub.Conce. 20050716
Prioridades DK20010226200100314
Nº Solicitud Euro. E02700187
NºPubl.Euro. 1364079
F.Pub.Sol.Euro. 20031126
Nº Solicitud PCT W0200127DK
F.Sol. PCT 20020226
NºPubl.PCT W02068729
F.Pub.Sol.PCT 20020906
Países desig.PCT AT BE CH DE DK ES FR GB GR IT LI LU NL SE MC PT IE SI LT LV FI RO MK CY AL EPO
BF BJ CF CG CI CM GA GN GQ GW ML MR NE SN TD TG OAPI
GH GM KE LS MW MZ SD SL SZ TZ UG ZM ZW ARIPO
AM AZ BY KG KZ MD RU TJ TM EAPO
Clasif.Principal C25D3/66,C25D7/00,A61L27/30,A61L29/10,A61L31/08