Título PROCEDIMIENTO DE TRATAMIENTO DE UN SUSTRATO POR PARTICULAS FOTOCATALITICAS CON EL FIN DE HACER A DICHO SUSTRATO AUTOLIMPIANTE.
Resumen Procedimiento de tratamiento de la superficie de un sustrato, caracterizado porque se realizan las siguientes etapas: 1. se trata el sustrato con una dispersión de partículas fotocatalíticas, luego 2. se trata el sustrato con al menos un compuesto siliconado elegido entre: (a) siliconatos de fórmula (I): **(Fórmula)** en la cual: – R es un resto hidrocarbonado de 1 a 18 átomos de carbono, eventualmente sustituido con un átomo de halógeno, un grupo amino, éter, epoxi, mercapto, ciano o (poli)-glicol, – m es un número entero o fraccionario comprendido entre 0, 1 y 3, y – M es un metal alcalino, un grupo amonio o un grupo fosfonio, y/o los productos de condensación de dichos siliconatos, (b) poliorganosiloxanos . bien sea de fórmula media (II): MalphaDbetaTdelta(O1/2Ri)epsilon , en la cual: M = Rii3SiO1/2 D = Rii3SiO2/2 Q = SiO4/2 con Rii, idéntico o diferente, representando bien sea un radical alquilo lineal o ramificado que tiene de 1 a 8 átomos de carbono, bien un grupo arilo sustituido o no sustituido que tiene de 6 a 12 átomos de carbono, o bien un grupo aralquilo, alcarilo, ariloxialquilo o alcoxiarilo en el cual el grupo arilo comprende de 6 a 12 átomos de carbono que pueden estar eventualmente sustituidos con al menos un grupo alquilo o alcoxi, lineal o ramificado, que tiene de 1 a 4 átomos de carbono, y en el cual el grupo alquilo o alcoxi tiene de 1 a 4 átomos de carbono y es lineal o ramificado, alpha, beta y delta representan respectivamente las fracciones molares de los átomos de silicio de los restos de M, D y Q, con alpha + beta + delta = 1, y: alpha <- 0, 10, preferentemente alpha <- 0, 010, beta <- 0, 85, delta >- 0, 10, Ri, idénticos o diferentes, representan un grupo alquilo que tiene de 1 a 4 átomos de carbono, y representando epsilon el número medio de restos de O1/2Ri por átomo de silicio que está comprendido entre 0, 1 y 1, 5, . o bien de fórmula media (III): MalphaDbetaTgamma(O1/2Ri)epsilon , en la cual: M, D, Ri y epsilon tienen el significado anteriormente citado, T = RiiSiO3/2, teniendo Rii el mismo significado citado anteriormente, alpha, beta y gamma 13 y y representan respectivamente las fracciones molares de los átomos de silicio de los restos de M, D y T, con alpha + beta + gamma y= 1, y alpha <- 0, 20, preferentemente alpha <- 0, 010, beta <- 0, 60, gamma >- 0, 30.
Solicitante RHODIA CHIMIE
Direc. Soli. 25, QUAI PAUL DOUMER,92408 COURBEVOIE CEDEX
Nac.Solicitante FR
Inventor CHAUFFRIAT, HENRI
ROCHER, LAURENT
NºPublic. 2189733
F.Pub.Conce. 20030716
Prioridades FR199901269900837
Nº Solicitud Euro. E00901176
NºPubl.Euro. 1153001
F.Pub.Sol.Euro. 20011114
F.Conce.Euro. 20030102
Nº Solicitud PCT W0000165FR
F.Sol. PCT 20000125
NºPubl.PCT W0044687
F.Pub.Sol.PCT 20000803
Países desig.PCT AT BE CH DE DK ES FR GB GR IT LI LU NL SE MC PT IE FI CY EPO
BF BJ CF CG CI CM GA GN GW ML MR NE SN TD TG OAPI
GH GM KE LS MW SD SL SZ TZ UG ZW ARIPO
AM AZ BY KG KZ MD RU TJ TM EAPO
Clasif.Principal C04B41/52,C03C17/42,B01J35/00,B05D7/00