Título APARATO Y METODO PARA RECUPERAR REVELADORES Y DECAPANTES DE RESINA FOTOSENSIBLE.
Resumen EN UN APARATO DE REVELADO, MORDENTADO Y DECAPADO, LOS PRODUCTOS QUIMICOS PARA EL REVELADO Y DECAPADO DE LA RESINA FOTOSENSIBLE SE EXTRAEN EN VIAS DE CIRCULACION SEPARADAS, EN CADA UNA DE LAS CUALES SON BOMBEADOS A TRAVES DE UN TERMOINTERCAMBIADOR (52), UNA SERIE DE FILTROS TANGENCIALES (60, 62, 64, 66), UN CONTACTOR DE ULTRAVIOLETAS (56) Y UN DEPOSITO DE RECOGIDA (38). EL PERMEADO PROCEDENTE DE LOS FILTROS SE DEVUELVE A LA ETAPA DE REVELADO (14) O DECAPADO (22), Y LAS SOLUCIONES CON ELEVADAS CONCENTRACIONES DE SOLIDOS SE RETIRAN DE LOS DEPOSITOS DE RECOGIDA PARA SU EVACUACION. EN LA REGENERACION DE LA SOLUCION DE REVELADO, BASADA EN CARBONATO SODICO O POTASICO, SE AÑADE GAS DE DIOXIDO DE CARBONO JUNTO CON UN HIDROXIDO DE METAL ALCALINO, A FIN DE MANTENER UN PH ADECUADO Y LA PROPORCION APROPIADA ENTRE CARBONATO Y BICARBONATO.
Solicitante PHOENANKH CORP.
Direc. Soli. 100 PENCADER DRIVE,NEWAK, DE 19702
Nac.Solicitante US
Inventor JABLONSKY, JULIUS, JAMES
NºPublic. 2221074
F.Pub.Conce. 20041216
Prioridades US199610239608740025
Nº Solicitud Euro. E97948116
NºPubl.Euro. 0944482
F.Pub.Sol.Euro. 19990929
F.Conce.Euro. 20040506
Nº Solicitud PCT W9719039US
F.Sol. PCT 19971021
NºPubl.PCT W9817483
F.Pub.Sol.PCT 19980430
F.Pub.Resumen 20011101
Países desig.PCT AT BE CH DE DK ES FI FR GB GR IE IT LI LU MC EPO
BF BJ CF CG CI CM GA GN ML MR NE SN TD TG OAPI
GH KE LS MW SD SZ UG ZW ARIPO
AM AZ BY KG KZ MD RU TJ TM EAPO
Clasif.Principal B44C1/22,G03F7/30